PVD鍍膜技術(shù)的新進(jìn)展
發(fā)布時(shí)間：2019-02-20 15:40:52
隨著(zhù)PVD技術(shù)應用的迅速推廣，吸引了國內外專(zhuān)家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā)，至今無(wú)論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝，還是PVD設備配套裝備與部件，都有了長(cháng)足的進(jìn)步。
1. 冷陰極電弧
陰極電弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態(tài)，從而實(shí)現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發(fā)源有新的發(fā)展，主要是通過(guò)有效強制冷卻和電磁場(chǎng)獨特的設計，在兩者共同作用下，使靶材的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。
2. 磁過(guò)濾陰極弧
配以高效的電磁過(guò)濾系統，將電弧產(chǎn)生的等離子體中的中性宏觀(guān)粒子、分子團等大顆粒過(guò)濾干凈，經(jīng)磁過(guò)濾后沉積粒子的離化率達100%， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與基體的結合力更強。
3. 柱狀或平面狀大面積電弧源
保證高離化率的同時(shí)，減少大顆粒沉積的比例，達到既有好的附著(zhù)力，又有較好的表面光潔度效果。
4. 中頻磁控濺射
增加離化率，減少電荷積累引起的異常放電，預防靶表面中毒現象，沉積工藝更穩定。
5. 全封閉非平衡磁控濺射
通過(guò)全封閉非平衡電磁場(chǎng)的作用，極大地提高真空室內的離化率以及沉積速率，增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。
6. 脈沖高能窄峰直流濺射
提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%)，接近電弧的離化率。通過(guò)電磁場(chǎng)的作用可以大大增加沉積離子的能量，從而改善膜層的結合力和致密性。
7. 陽(yáng)極層離子源輔助沉積
提高轟擊清洗的質(zhì)量，特別是可以實(shí)現對非導體的鍍前清洗，鍍膜時(shí)輔助沉積，提高沉積粒子的能量，改善膜層的結合力。
8. 納米復合多層膜
納米沉積技術(shù)，是涂層結構未來(lái)的發(fā)展方向，通過(guò)納米級厚度的不同成份沉積層復合結構膜，實(shí)現涂層性能的極大增強。
9. 裝飾性雙色間鍍
單一的顏色PVD涂層已滿(mǎn)足不了市場(chǎng)的需求，進(jìn)而提出雙色間鍍的要求，這是裝飾涂層的發(fā)展方向，雙色間鍍的質(zhì)量成為代表PVD加工企業(yè)的生產(chǎn)技術(shù)水平標志。
10. 高能脈沖疊加直流偏壓
減少工件的打火，增加沉積離子能量，增強膜基結合力，提高沉積速率。
11. 超低溫捕集泵
通過(guò)低溫冷凝效應，迅速捕集真空系統內的殘余氣體，特別是水蒸汽，大大縮短抽真空的時(shí)間，獲得潔凈的真空環(huán)境。
12. 分子泵及深冷泵
綠色環(huán)保，大大降低能耗，真空系統抽速穩定，鍍膜工藝穩定可靠，重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體，保證真空系統的潔凈度。
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