真空鍍膜

真空鍍膜主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,　靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來(lái)的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。

新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動(dòng)以加速靶材周?chē)臍鍤怆x子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow

光學(xué)鍍膜

無(wú)論是無(wú)機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫(氧化硅)的摩擦都會(huì )造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過(guò)顯微鏡，我們可以觀(guān)察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺(jué);另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區域則會(huì )影響視力。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來(lái)的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設備上測試不出來(lái)了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。

最早的是光控測試，現在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來(lái)測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。