以濺射的方法進(jìn)行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會(huì )不一樣的，雖然肉眼無(wú)法看出來(lái)，但確實(shí)擁有一定的優(yōu)勢。

       膜厚穩定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關(guān)系，電流越高，濺射效率越大，相同時(shí)間內，所鍍膜層的厚度相對就大了，因為只要把電流數值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了，當然這個(gè)厚度是在可允許的范圍內，而且控制好電流，無(wú)論重復鍍多少次，膜層厚度都不會(huì )變化，膜厚的穩定性可歸結為膜厚良好的可控性和重復性。

       膜層結合力強，在濺射過(guò)程中，有部分電子撞擊到基材表面，激活表面原子，并且產(chǎn)生清潔的作用，而鍍材通過(guò)濺射所獲得的能量比蒸發(fā)所獲得的能量高出1到2個(gè)數量級，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時(shí)，有更多的能量可以傳遞到基材上，產(chǎn)生更多的熱能，使被電子激活的原子加速運動(dòng)，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著(zhù)陸續沉積成膜，加強了膜層與基材的結合力。

    鍍材范圍廣，由于濺射鍍膜是通過(guò)氬離子的高速轟擊使鍍材濺射出來(lái)的，不像蒸發(fā)鍍膜由于熔點(diǎn)的原因而限制只能使用熔點(diǎn)比較低的鍍材，而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質(zhì)都可以成為鍍材。